산업대전환의 미래를 선도하는 혁신성장 플랫폼

  • HOME

정책간행물

[2022년 22호] (이슈포커스) 일본 차세대 반도체 설계·제조기반 확립 방안 발표 (日 경제산업성, 11.11)

2022-12-02View. 247
  • 담당부서 :동향조사연구팀
  • 담당자 : 홍천택
  • 연락처 : 02-3485-4033
  • 분류 : 산업기술 동향워치

◎ 일본 경제산업성이 미·일 협력 및 연구개발거점 구축을 통한 차세대 반도체 설계·제조기반 확립 방안을 공표

※ 반도체 선도업체를 보유한 미국, 한국, 대만을 비롯해 인텔 공장을 유치한 유럽에 이르기까지 전 세계적으로 차세대 반도체 개발이 가속화되는 가운데, 최첨단 반도체 구조가 핀(Fin)형에서 GAA형으로 대폭 변경되며 고도의 양산 기술이 필요한 전환기가 도래함에 따라, 일본 정부는 ‘2nm 이하급’ 차세대 반도체에 진입할 수 있는 마지막 기회로 간주하고 TSMC 유치, 미국과의 반도체 협력 강화 등을 통한 반도체 부활을 추진

미국과 일본 정부는 제1회 미-일 상무·산업파트너십(JUCIP) 각료회담에서 「반도체협력 기본원칙」(’22.5.4)*을 수립하고 동 원칙에 따라 공동연구를 실시하기로 합의

* (半導体協力基本原則) 반도체 공급망 강화·연구개발에 동맹국, 관계국과의 협력이 필수적인 만큼 미-일 간 개방 시장·투명성·자유무역을 기본으로 반도체 공급망 정보를 상호 공유하고 반도체 제조능력 강화, 노동력 개발 촉진, 투명성 향상, 반도체 부족에 대한 긴급 대응, 연구개발 강화 등에 협력하기로 결정

- 양국은 「반도체협력기본원칙」에 따라 차세대 반도체 개발 공동 TF 설치 계획 발표(5.23 정상회담)에 이어, 첨단 기술 육성·보호를 위한 미-일 공동 연구개발에 합의하며(7.29 경제정책협의회) 일본 측 대응으로 연구개발조직인 일본판 NSTC*를 설립하기로 결정

* (National Semiconductor Technology Center) 국립반도체기술센터

 

◎ (배경) 일본 정부는 자국 반도체 시장이 ’20년 약 50조 엔에서 ’30년 약 100조 엔으로 성장할 것으로 예상하고 산업 부활을 위한 3단계 기본 전략을 추진

※ ‘반도체·디지털산업전략 검토회’ 제4차 회의(’21.11)에서 논의된 「디지털산업정책의 신기축」 자료에서 반도체 산업 회복을 위한  3단계 기본 전략을 제시

- (1단계: IoT용 반도체 생산 기반) 반도체 생산 포트폴리오의 조속한 강화 추진

(2단계: 미-일 협력 강화) 미-일 협력 프로젝트를 통해 차세대 반도체 기술 습득 및 국내 확립

- (3단계: 글로벌 협력 강화) 차세대 광전융합기술 연구개발 기반 구축

 

◎ (프로젝트 체제) 2nm 이하급 차세대 반도체의 단기간 TAT* 양산 기반 구축을 위해 연구개발거점 LSTC**와 양산제조거점 라피더스를 설립

* (Turnaround Time) 웨이퍼를 투입해 반도체가 칩의 형태로 생산될 때까지 걸리는 시간

** (Leading-edge Semiconductor Technology Center) 기술연구조합 최첨단 반도체기술센터

 

▘차세대 반도체 프로젝트 주요 거점▗

구분

주요 내용

LSTC

∙ 첨단 설계, 첨단 장치·소재의 요소 기술과 관련된 개방적인 연구개발 거점으로 LSTC를 연내 설립할 방침

  - LSTC는 미국 NSTC를 비롯해 해외 관계기관과 협력하는 개방적 연구개발 플랫폼을 구축하고, 양자·AI의 혁신을 뒷받침할 차세대 반도체 연구 분야 국내외 지식을 결집

라피더스

 ’20년대 후반 차세대 반도체의 미래 제조 기반 확립을 위한 연구개발 프로젝트 사업화 거점으로 ‘라피더스(Rapidus)’를 설립할 계획

  기관 설립을 위해 일본 8대 대기업(키옥시아(Kioxia), 소니 그룹, 소프트뱅크, 덴소, 도요타자동차, 일본전기, 일본전신전화, 미쓰비시UFJ은행)이 73억 엔을 출자

  - 라피더스는 개발비 700억 엔 규모의 연구개발 프로젝트(미-일 협력을 기반으로 한 2nm급 반도체 집적화 기술과 TAT 제조기술 연구개발) 사업자로 선정

※ (프로젝트 내용) ▲미국 IBM 등과의 제휴로 2nm급 로직 반도체 기술 개발 및 단기간의 TAT 파일럿 라인 구축과 테스트 칩 실증 실시 ▲’22년도 2nm급 요소 기술 획득, EUV 노광기 도입 착수, TAT 생산 시스템에 필요한 장치·운송시스템·생산관리시스템 사양 결정, 초기 파일럿 라인 설계 추진 ▲연구기간 종료 후 첨단 로직 파운드리의 사업화 도모

 

▘차세대 반도체 프로젝트 체제 개요▗

 

◎ (프로젝트 일정) 미국에서 진행된 기초연구를 바탕으로 ’20년대 후반 일본에서 차세대 반도체를 양산하겠다는 목표를 설정하고 연구개발 프로젝트를 추진

- 미-일 정상 간 합의에 따라 설치된 미일합동태스크포스(Joint TF)에서 미국 상무부와 일본 경제산업성 간 차세대 반도체 사업 진척사항을 지속적으로 관리

- 향후 미국 NSTC와 일본 LSTC의 협력을 바탕으로, 양국 최고 인재들이 결집하여 적절한 역할 분담과 긴밀한 협력을 추진함으로써 연구개발부터 사업화의 전 과정을 진행

 

▘차세대 반도체 프로젝트 일정

 

(참고 : 経済産業省, 次世代半導体の設計・製造基盤確立に向けて, 2022.11.11.)

 

* 관련링크

https://www.meti.go.jp/press/2022/11/20221111004/20221111004-1.pdf

https://www.meti.go.jp/press/2022/11/20221111004/20221111004.html

  • 담당부서 : 기술동향조사실
  • 담당자 : 정휘상
  • 연락처 : 02-6009-3593
담당자에게 문의하기
TOP